第207章 最起码的尊重（2/2）

请关闭浏览器的阅读/畅读/小说模式并且关闭广告屏蔽过滤功能，避免出现内容无法显示或者段落错乱。

不过他也了解王浩的性格了，这家伙是很能经受打击的。

而且每打击一次，他就会更强一次，跟个赛亚人一样。

要不是被李东连番打击，这货怎么会报名cu？

这不就是越挫越勇的典范吗？

李东在心里默默想道。

耗子，你放心。

到时候你那份国赛作品要是真能进终评，我一定会……

认真严格地检查你的每一个模型假设、每一行代码注释、每一条参考文献。

绝不偷懒。

这是东哥能给你的，最起码的尊重。

李东笑著摇了摇头，起身去泡面，然后三下五除二的解决掉以后就准备开始干活了。

他闭上眼睛，所有属性直接拉满。

这次！他不光要记，还要理解……

记忆宫殿的大门“哢哒”一声被推开。

周围的声音渐渐离他远去。

窗外的风声、王浩床帘里那若有若无的呜咽……

……

魔都，华轩科技，光刻研发中心地下三层。

张默的操作著平板电脑，手心里全是汗。

平板上显示著一条条数据……

浸没腔内三维流热耦合场的实时压力梯度、折射率涨落、液膜厚度的亚纳米级抖动……

所有这些在过去被视为“不可实时求解”的参数，现在每三微秒就在他的平板上刷新一次。

他深吸了一口气，抬起头，声音都在发抖。

“林总。”

“已经可以了。”

一向最沉得住气的林伟，此刻坐在他对面，手里拿著一张打印出来的系统状态报告。

他的手也在抖。

“走。”

林伟站起身，只说了一个字。

张默立刻领著他，快步朝著一号验证舱走去。

很快验证舱的双重气密门打开了，林伟走了进去，张默紧随其后。

此时验证舱里的人都是国威装备的自己人。

国威装备光刻总体设计部的首席工程师。

曾经主导过华夏第一台自主浸没式光刻机整机联调的贺老。

以及流体力学与流场控制组的组长。

从七机部退下来以后又被返聘过来的赵老，他已经八十二岁了，头发全白，但眼里依然有光。

还有几位名声不显，但履历随便拎一份出来都能让国内半导体圈地震的人

一共十九个人。

全部站在那台浸没式光刻机的主控台前。

没有人说话。

整个验证舱里，只能听见主控台上那几十台显示器的风扇声，和十九个人呼吸声。

所有人的目光，都盯著前方那块最大的主显示屏上。

显示屏里是浸没腔内部的实时流场可视化渲染。

以前这里是一片的混沌，里面充满了旋涡、湍流、温度梯度的复杂图案。

但现在。

在李东那套21版本降维算法的驱动下，那片混沌被解构成了一组一组的彩色条纹。

每一条条纹，都是算法在谱空间里识别出来的一个低维不变子空间基底。

所有原本应该狂野乱窜的高频振荡项，在这些基底的正交性下被悄无声息地消去。

就像有一只手，从最底层的数学结构里，把湍流这只野兽按进了一个笼子。

主显示屏下方：

【曝光焦面偏差：-007n】

【迭层对准误差：011n】

【算法前馈响应时间：18μs】

011纳米的对准误差。

这个数字的意义，林伟看得懂，张默看得懂，舱里那十九个人都看得懂。

这已经是asl最新一代nxe系列euv光刻机的工程化水平。

而这，是一台浸没式duv。

是他们用一台物理原理上低一个代的机器，靠著一套算法，硬生生把光刻精度拉到了高一个代际的水平线上。

“第七次了。”

有人在林伟身后低声说了一句。

“前六次都成功了。”

“这是第七次验证。”

“贺老说，要连续成功十次以上，才能算是……稳定落地。”